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新创纳公司拥有非常完备的抛光液验证设备，在抛光液的开发研究中起着至关重要的作用，这些设备能够满足各种尺寸、材质衬底材料的抛光液制成验证。…
恭喜上海新安纳(浙江新创纳)电子科技有限公司再次入围全球CMP抛光液材料供应商名录…
化学机械抛光通常称为 CMP (Chemical Mechanical Polishing)，在整个抛光过程中，机械抛光和化学腐蚀同时起作用，抛光作用部分是机械研磨的，部分是化学腐蚀的。化学作用腐蚀晶圆表面，然后通过抛光设备向被抛元件施加机械压力，机械研磨带走腐蚀的表面材料，从而提高材料去除率。…
浙江新创纳电子科技有限公司获得海宁市年度创新创业团队表彰，这是继去年获得浙江省优秀创业团队后又一次获得海宁市政府的表彰。…
CMP全称为Chemical Mechanical Polishing，化学机械抛光，是半导体晶片表面加工的关键技术之一。…
「上海新安纳」浙江新创纳电子科技有限公司研发生产的集成电路抛光液，经历了多代升级，目前已经用于多家半导体公司。…
「上海新安纳」浙江新创纳是一家专注于研发高端硅溶胶、CMP抛光液及其生产和销售公司，在CMP抛光液和抛光技术方面已申请并获得发明专利两百余项，广泛应用于半导体、抛光等行业，年产能一万多吨。…
「上海新安纳」浙江新创纳电子科技有限公司开发了系列碳化硅晶圆（SiC Wafer）抛光液，既开发了碳化硅粗抛液也开发了碳化硅精抛液，主要应用在不同尺寸高纯半绝缘体4H-SiC，N型4H-SiC等晶圆抛光。…
「上海新安纳」针对LED蓝宝石背面减薄抛光专门设计了LED芯片背面减薄抛光液，该系列抛光液主要用于在蓝宝石衬底的研磨和背面减薄。…
上海新安纳电子科技有限公司「浙江新创纳」生产的SS不锈钢系列抛光液针对手机、电脑、平板电脑等移动终端设备不锈钢工件的抛光设计而成，适用于抛光304型、316型和316L型等不同型号的不锈钢材质，主要用于不锈钢的精抛工序。…
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