氧化铝基蓝宝石抛光液

蓝宝石抛光液中的主要成分有：磨料、pH调节剂、表面活性剂、螯合剂等，其中，磨料是影响CMP抛光效果最重要的因素之一，它主要影响化学机械抛光中的机械作用。目前常用的磨料主要有金刚石、氧化铝、氧化硅等单一磨料，也有氧化硅/氧化铝混合磨料以及核壳型的复合磨料等。 氧化铝磨料表面细腻，质地坚硬，耐磨性好，耐腐蚀，适用于多种材料的表面研磨抛光处理，市面上最常用的就是性能优良的α-Al2O3磨料。氧化铝磨料的缺点是分散性和选择性较差，抛光液的粘度大，不易清洗。并且由于α-Al2O3磨料的硬度与蓝宝石相近，在抛光过程中容易对工件表面造成新的损伤。但由于氧化铝磨料的抛光速率优于二氧化硅磨料，LED产业的市场前景广阔。

「上海新安纳」浙江新创纳电子科技有限公司近年来从配方、工艺等多渠道，针对C向蓝宝石这种超硬材料，成功解决了氧化铝作为CMP抛光液磨料的上述种种弊端。它有高效的去除速率，抛光后的蓝宝石表面缺陷较少，可以保证被抛工件有较高的良品率。尤其在抛光速率方面，氧化铝抛光液较之前的氧化硅抛光液有显著提升，是其速率的2倍以上。

新创纳公司开发的氧化铝基蓝宝石抛光液系列产品包括：WH-R2，WH-RG、WH-XJ1、WH-AK01、WH-A1905、WH-XJ1A、WH-AK09、WH-XJ262等。

优点：

1、抛光表面质量好，表面粗糙度Ra小于0.3nm；

2、去除效率高，抛光速率大于10μm/h；

3、抛光寿命长。